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Data download離子膜新工藝zui初上馬1年多的時(shí)間里,儀器分析檢測(cè)的項(xiàng)目及頻次都很高,尤其是對(duì)入槽鹽水、陽(yáng)極液分析較多,未對(duì)此情況加以重視,認(rèn)為可能是使用太頻繁的緣故。但之后,檢測(cè)的項(xiàng)目及頻次都有很大減少,這種現(xiàn)象仍然存在,由于矩管是儀器主要易損部件之一,價(jià)格也很高。我們決定對(duì)此現(xiàn)象進(jìn)行分析探討,以找到原因所在并加以解決,消除或減少這種現(xiàn)象。
我們對(duì)于高純鹽酸及軟水使用了1套儀器操作參數(shù),對(duì)入槽鹽水及陽(yáng)極液等基體濃度較大的溶液樣品使用另外1套參數(shù)。其中相應(yīng)的功率、冷卻氣等主要參數(shù)相對(duì)都稍高些,以降低基體效應(yīng)的影響。高純鹽酸、軟水等樣品比較純凈,基體影響也較小,分析前后矩管外觀的變化也不明顯,因此主要集中分析入槽鹽水樣品性質(zhì)及其相應(yīng)儀器參數(shù)與此現(xiàn)象間的。
通過(guò)現(xiàn)象分析探討,我們認(rèn)為ICP等離子光譜儀矩管的異?,F(xiàn)象可能有3個(gè)原因:
(1)激發(fā)能量過(guò)高,引起矩管溫度過(guò)高、硅元素激發(fā)、內(nèi)壁耗損;
(2)樣品本身(主要是樣品的堿度)對(duì)石英矩管的腐蝕;
(3)矩管外管內(nèi)壁與冷卻氣氣流間的摩擦作用使矩管外管內(nèi)壁損耗嚴(yán)重,從而在外管內(nèi)壁表面出現(xiàn)這種現(xiàn)象。